-------- 射频离子源 RFICP 380 本体 ----射频离子源 RFICP 380 特性1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更久. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配2. 离子源结构模块化设计3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调整技术保障栅极的应用期限和可重复的工艺运转4. 全全自动化控制，降低人力成本。装置5. 离子束动能 100-1200eV射频离子源 RFICP 380 规格参数:阳极电感耦合等离子体2kW & 1.8 MHz射频自动匹配阳极功率>1kW离子束流> 1000mA电压范围100-1500V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-50sccm压力< 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极38cm Φ栅极材质钼或石墨离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度38.1 cm直径58.2 cm锁紧安装法兰12”CF射频离子源 RFICP 380 尺寸:射频离子源尺寸大口径射频离子源典型应用:射频离子源安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产射频离子源在高倍显微镜下检视脱膜测试上海伯东RFICP325脱模测试--------- 使用其他品牌离子源---
--------------------- 使用美国 KRI 射频离子源 ----------------------从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国 KRI 射频离子源, 样品无崩边1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国成立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 开发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子冲洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联系方法 :上海伯东 : 罗先生
伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322
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